Michael L. Hitchman

Pays :Grande-Bretagne
Langue :anglais
Note :
Chimiste. - En poste au Department of pure and applied chemistry, University of Strathclyde, Glasgow, GB (en 1993)
ISNI :ISNI 0000 0001 1748 4820

Ses activités

Éditeur scientifique2 documents

  • Chemical vapour deposition

    precursors, processes and applications

    Description matérielle : 1 vol. (XV-582 p.)
    Description : Note : Notes bibliogr.
    Édition : Cambridge, UK : Royal Society of Chemistry , cop. 2009
    Éditeur scientifique : Anthony C. Jones

    [catalogue][https://catalogue.bnf.fr/ark:/12148/cb41453020p]
  • Chemical vapour deposition

    principles and applications

    Description matérielle : V-677 p.
    Description : Note : Bibliogr. à la fin de chaque chap. Index
    Édition : London ; San Diego ; New York [etc.] : Academic press , cop. 1993
    Éditeur scientifique : Klavs F. Jensen

    [catalogue][https://catalogue.bnf.fr/ark:/12148/cb37391260c]

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Auteurs reliés

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Sources et références

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Sources de la notice

  • Chemical vapor deposition : principles and applications / ed. by Michael L. Hitchman and Klavs F. Jensen, 1993
  • LCNA (CD OCLC), 1993-03
    WW in science in Europe, 1989

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