Christoph Werner

Pays :Pays-Bas
Langue :néerlandais; flamand
Note :
Écrit aussi en anglais
Spécialiste des semiconducteurs. - En poste à l'Université de Delft, Kramer laboratorium voor Fysische Technoloie, Delft, Pays-Bas (en 1993)
ISNI :ISNI 0000 0000 8399 3669

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Auteur du texte1 document

  • Modeling of chemical vapor deposition of tungsten films

    Description matérielle : 138 p.
    Description : Note : Notes bibliogr.
    Édition : Basel ; Boston ; Berlin : Birkhäuser Verlag , 1993
    Auteur du texte : Chris R. Kleijn

    [catalogue][http://catalogue.bnf.fr/ark:/12148/cb37413413d]

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Sources et références

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Sources de la notice

  • Modeling of chemical vapor deposition of tungsten films / Chris R. Kleijn, Christoph Werner, 1993
  • LCNA (CD OCLC), 1993-12

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